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J-GLOBAL ID：200903031534157043

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 藤森 亨 ,  丹 史郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998167222
Publication number (International publication number)：2000003043
Application date： Jun. 15, 1998
Publication date： Jan. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】保存安定性及び耐ドライエッチング性を改良した、優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基が特定の各々別の酸分解性基で置換されている樹脂を2種、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物が提供される。

Claim (excerpt)：

(a)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基の10〜80%が下記一般式(I)で示される基で置換されている樹脂A、(b)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基の10〜80%が下記一般式(II)又は(III)で示される基で置換されている樹脂B、(c)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(d)溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1、R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、Wは2価の有機基を表し、R3は総炭素数11〜20の置換基を有してもよい鎖状アルキル基、総炭素数11〜20の置換基を有してもよい環状アルキル基、総炭素数11〜30の置換基を有してもよいアリール基、又は総炭素数12〜30の置換基を有してもよいアラルキル基を表す。R4 は、炭素数1〜10個の直鎖、分岐あるいは環状のアルキル基を表す。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (13)：

2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BC37 ,  2H025BC73 ,  2H025BC86 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025CA01 ,  2H025CA25 ,  2H025CA43 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB45