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J-GLOBAL ID：200903031536208834

基板処理装置

Inventor： 芳谷 光明
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 小谷 悦司 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996143065
Publication number (International publication number)：1997323060
Application date： Jun. 05, 1996
Publication date： Dec. 16, 1997
Summary：

【要約】【課題】 装置の大型化を抑えた上で、基板の裏面の処理液の置換を確実に行うことができるようにする。【解決手段】 基板搬送方向に直交した面内で水平方向に対して傾斜した姿勢で搬送中の基板Bの表裏面に処理液を供給して基板Bに所定の処理を施す基板処理装置において、基板Bの裏面側に対して所定の間隔を隔てて対向配置される補助板7と、この補助板7の表面側の上位側端縁に向けて処理液を吐出する裏面側処理液吐出手段6bとが備えられ、上記補助板7は、その幅寸法が基板Bの幅寸法よりも長く設定され、かつ、その上位側端縁が基板Bの上位側端縁よりも上位位置に配置されている。

Claim (excerpt)：

基板搬送方向と直交した面内で水平方向に対して傾斜した傾斜姿勢で搬送される基板の表裏面に処理液を供給して処理を行う基板処理装置において、基板搬送路に沿って設けられるとともに、搬送中の基板の裏面側と所定の間隔を隔てて対向配置され、幅寸法が基板の幅寸法より長く、かつ、上位側端縁が基板の上位側端縁より高い位置に固定された補助板と、この補助板の上位側から上記隙間に処理液を供給する裏面側処理液供給手段とが備えられていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (7)：

B05C 11/08 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68

FI (7)：

B05C 11/08 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 569 D