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J-GLOBAL ID：200903031536444929

光導波路膜の製造方法

Inventor： 牧川 新二 ,  江島 正毅 ,  小西 繁 ,  神屋 和雄
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 山本 亮一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997075337
Publication number (International publication number)：1998273340
Application date： Mar. 27, 1997
Publication date： Oct. 13, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 光導波路デバイスの石英膜のアニール後の屈折率が1.458 ±0.001 の範囲内に入り、かつ膜中に反応中間体が極めて少なく、アニール後も膜の収縮が無い良好な石英膜を作製すること。【解決手段】 光導波路膜の製造において、テトラエトキシシランと酸素を原料ガスとして、プラズマ化学気相反応をさせて、シリコン基板上に厚さ5μm 以上に堆積した直後の石英膜の屈折率を1.47±0.01の範囲とする。

Claim (excerpt)：

テトラエトキシシランと酸素を原料ガスとして、プラズマ化学気相反応をさせて、シリコン基板上に厚さ5μm 以上に堆積した直後の石英膜の屈折率を1.47±0.01の範囲とすることを特徴とする光導波路膜の製造方法。

IPC (6)：

C03C 17/02 ,  C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  G02B 6/13 ,  G02B 6/12 ,  H01L 21/316

FI (6)：

C03C 17/02 ,  C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  H01L 21/316 X ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 光導波路及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-214114   Applicant：日立電線株式会社
• 石英系ガラス膜の製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-272505   Applicant：日立電線株式会社
• ガラス導波路の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-340328   Applicant：日立電線株式会社