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J-GLOBAL ID:200903031540940051

個片の表面に合金被膜を蒸着形成するための真空蒸着方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 清水 善廣 ,  阿部 伸一 ,  辻田 幸史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006301908
Publication number (International publication number):2007154310
Application date: Nov. 07, 2006
Publication date: Jun. 21, 2007
Summary:
【課題】 種々の金属組成の合金被膜を希土類系永久磁石などの個片の表面に簡易に蒸着形成するための方法を提供すること。【解決手段】 本発明の真空蒸着方法は、金属Aと金属Bの2種類の金属を少なくとも含む合金被膜(但し金属Bは金属Aよりも高蒸気圧である)を被処理物である個片の表面に蒸着形成するための真空蒸着方法であって、真空処理室の内部の被膜原料溶融蒸発部において、坩堝内の金属Aの固体と坩堝の直上方に所定の送り速度で案内される金属Aと金属Bを含む合金ワイヤーに対して電子線を照射し、金属Aの固体と合金ワイヤーを同時に溶融蒸発させることで、合金ワイヤーの送り速度に応じた金属組成の合金被膜を被膜原料溶融蒸発部の上方に位置する個片の表面に蒸着形成することを特徴とするものである。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
金属Aと金属Bの2種類の金属を少なくとも含む合金被膜(但し金属Bは金属Aよりも高蒸気圧である)を被処理物である個片の表面に蒸着形成するための真空蒸着方法であって、真空処理室の内部の被膜原料溶融蒸発部において、坩堝内の金属Aの固体と坩堝の直上方に所定の送り速度で案内される金属Aと金属Bを含む合金ワイヤーに対して電子線を照射し、金属Aの固体と合金ワイヤーを同時に溶融蒸発させることで、合金ワイヤーの送り速度に応じた金属組成の合金被膜を被膜原料溶融蒸発部の上方に位置する個片の表面に蒸着形成することを特徴とする真空蒸着方法。
IPC (5):
C23C 14/30 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/24 ,  C22C 21/06 ,  H01F 41/02
FI (5):
C23C14/30 A ,  C23C14/14 D ,  C23C14/24 D ,  C22C21/06 ,  H01F41/02 G
F-Term (15):
4K029AA21 ,  4K029AA22 ,  4K029AA29 ,  4K029BA23 ,  4K029BC01 ,  4K029BD00 ,  4K029DB03 ,  4K029DB04 ,  4K029DB08 ,  4K029DB09 ,  4K029EA05 ,  4K029EA08 ,  4K029EA09 ,  5E062CD04 ,  5E062CG07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)

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