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J-GLOBAL ID：200903031550081634
Ta製スパッタリングタ-ゲットとその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
今井 毅
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993079055
Publication number (International publication number)：1994264232
Application date： Mar. 12, 1993
Publication date： Sep. 20, 1994
Summary：
【要約】【目的】 Ta製スパッタリングタ-ゲットを用いたスパッタリングにて、均一で高性能の薄膜を安定して得られる手立てを確立する。【構成】 Ta製スパッタリングタ-ゲットを、合計のガス成分含有量が100ppm以下で、かつ平均結晶粒径が1mm以下であるところの溶製したTaの塑性加工材にて構成する。また、このTa製スパッタリングタ-ゲットを製造するため、合計のガス成分含有量が100ppm 以下であるTa鋳塊を加工率:90%以上で冷間鍛造した後、0.1mmbar以下の真空中にて加熱温度:900〜1300°Cで熱処理し再結晶させる工程を採用する。
Claim (excerpt)：
合計のガス成分含有量が100ppm 以下で、かつ平均結晶粒径が1mm以下であるところの、溶製したTaの塑性加工材から成ることを特徴とするTa製スパッタリングタ-ゲット。
IPC (3)：
C23C 14/34
, C22C 27/02 103
, C22F 1/18
