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J-GLOBAL ID：200903031559852412

投影露光装置

Inventor： 小貫 勝則
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992123242
Publication number (International publication number)：1993326372
Application date： May. 15, 1992
Publication date： Dec. 10, 1993
Summary：

【要約】【構成】被投影物体である回路パターンを配置したマスク2上に、複数個のピンホール及びスリットからなる光透過部3を設け、光透過部3の投影位置をデータ処理系14により統計計算処理することにより、ステージ5のX/Y座標系に対するマスク2の位置誤差を算出し、マスク2の位置を位置検出器16及びマスク2を保持し、移動させるステージ駆動部15により閉ループ制御する。【効果】本発明によれば、投影露光装置の回路パターン焼付け動作における回路パターンのX/Y/θ軸方向の位置誤差を自動検出し、補正することが可能であり、高精度かつ短時間に補正し、高密度集積回路パターン露光時の高精度位置決めが実現される。

Claim (excerpt)：

被投影物体にて基準信号を発生させ、これを露光物体と相当位置に結像させ、この基準信号の像位置を測定する手段と、被投影物体を保持し、移動するステージ駆動部と被投影物体のX/Y/θ軸方向の位置を測定する手段とを設け、被投影物体のX/Y/θ軸方向の位置補正をすることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00