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J-GLOBAL ID：200903031579968700
組織治療法としての標的を定めたヒステリシス温熱療法の改善法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
奥山 尚男 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998306483
Publication number (International publication number)：1999197257
Application date： Oct. 28, 1998
Publication date： Jul. 27, 1999
Summary：
【要約】【課題】 特定の器官の選択された部位を局所的あるいは全身的に、臨床的に加熱することによる病変組織の治療方法を提供する。【解決手段】 本発明は、(i)回転磁場条件が約5×108A/S以下である場合、磁気発熱効率が少なくとも約4.5×10-8J.m./A.g.である少なくとも磁性体を選択するステップと、(ii)病変組織の中に該磁性体を送達するステップと、(iii)該磁性体を、周波数約10kHz以上、磁場強度、周波数および曝露された領域の半径の積が約7.5×107A/S未満となるように選択された磁場強度の回転磁場に曝露し、病変組織内でヒステリシス熱を産生するステップとを含む病変組織の改善された治療方法を提供する。
Claim (excerpt)：
(i)回転磁場条件が約5×108A/m.S以下である場合、磁気発熱効率が少なくとも約4.5×10-8J.m./A.g.である少なくとも磁性体を選択するステップと、(ii)物質の中に磁性体を導入するステップと、(iii)該磁性体を、周波数約10kHz以上、磁場強度、周波数および曝露された領域の半径の積が約7.5×107A/S未満となるように選択された磁場強度の回転磁場に曝露し、該物質内でヒステリシス熱を産生するステップとを含む物質の加熱方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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