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J-GLOBAL ID：200903031580758183

レーザープラズマX線発生装置

Inventor： 森久 祐司
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 竹本 松司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997329940
Publication number (International publication number)：1999160499
Application date： Dec. 01, 1997
Publication date： Jun. 18, 1999
Summary：

【要約】【課題】 試料上でのX線の走査を簡易な構成で高精度に行うことができるレーザープラズマX線発生装置を提供する。【解決手段】 レーザー光をターゲットに照射してレーザープラズマ法によりX線を発生するレーザープラズマX線発生装置において、ターゲット5とレーザー源1との間に、ターゲット5上のレーザー光の照射位置21を変移させる光学系(集光レンズ4)を備え、この光学系4によって、ターゲット5上のレーザー光の照射位置21を変移させ、試料上のX線照射位置22を変移させて試料7上でX線を走査させる構成とする。

Claim (excerpt)：

レーザー光をターゲットに照射してレーザープラズマ法によりX線を発生するレーザープラズマX線発生装置において、ターゲットとレーザー光源との間に、ターゲット上のレーザー光の照射位置を変移させる光学系を備え、前記光学系は、ターゲット上のレーザー光の照射位置を変移させることによって試料上のX線照射位置を変移させ、試料上でX線を走査させることを特徴とするレーザープラズマX線発生装置。

IPC (3)：

G21K 5/02 ,  H05G 2/00 ,  H01S 4/00

FI (3)：

G21K 5/02 X ,  H01S 4/00 ,  H05G 1/00 K