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J-GLOBAL ID:200903031597798316

親水性ナノ多孔材料及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999288341
Publication number (International publication number):2001104744
Application date: Oct. 08, 1999
Publication date: Apr. 17, 2001
Summary:
【要約】【課題】 吸着量が大きく、かつ、吸着・再生サイクルにおいてヒステリシス性を示さない除湿素子を作製するための素材を提供する。【解決手段】 実質的にシリカを素材とし、サブナノメーターから十数ナノメーターまでの径の均一なナノ細孔構造を有するナノ多孔材料であって、比表面積が400〜1300m2/gであり、前記ナノ細孔構造の内部表面が親水化されている。
Claim (excerpt):
実質的にシリカを素材とし、サブナノメーターから十数ナノメーターまでの径の均一なナノ細孔構造を有するナノ多孔材料であって、比表面積が400〜1300m2/gであり、前記ナノ細孔構造の内部表面が親水化されていることを特徴とする親水性ナノ多孔材料。
IPC (5):
B01D 53/28 ,  B01D 53/26 101 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/30 ,  C01B 33/12
FI (5):
B01D 53/28 ,  B01D 53/26 101 A ,  B01J 20/10 A ,  B01J 20/30 ,  C01B 33/12
F-Term (59):
4D052AA08 ,  4D052CB01 ,  4D052FA01 ,  4D052GA01 ,  4D052GA03 ,  4D052GA04 ,  4D052GB03 ,  4D052GB13 ,  4D052GB14 ,  4D052GB16 ,  4D052GB17 ,  4D052GB18 ,  4D052HA01 ,  4D052HA17 ,  4D052HA49 ,  4D052HB02 ,  4G066AA22B ,  4G066AA71A ,  4G066AB09D ,  4G066AB18A ,  4G066BA03 ,  4G066BA05 ,  4G066BA07 ,  4G066BA20 ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066BA31 ,  4G066BA36 ,  4G066CA43 ,  4G066DA03 ,  4G066FA03 ,  4G066FA14 ,  4G066FA22 ,  4G066FA25 ,  4G066FA34 ,  4G066FA36 ,  4G066FA37 ,  4G072AA28 ,  4G072AA41 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072CC13 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ33 ,  4G072LL06 ,  4G072LL14 ,  4G072MM01 ,  4G072MM02 ,  4G072MM31 ,  4G072NN21 ,  4G072QQ06 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072TT05 ,  4G072UU11

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