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J-GLOBAL ID:200903031622989610

レーザリペア装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡部 温
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997273304
Publication number (International publication number):1999090659
Application date: Sep. 22, 1997
Publication date: Apr. 06, 1999
Summary:
【要約】【課題】 メモリセル救済用のヒューズピッチの縮小に対応できるレーザリペア装置を提供する。【解決手段】 加工レーザ光源にYAGレーザやYLFレーザの3倍高調波又は4倍高調波を用いることにより、照射するレーザビームサイズを1μm 以下に小さくする。これにより、ピッチ1μm 程度で配列されているヒューズを、隣のヒューズに影響を与えることなく切断できる。
Claim (excerpt):
加工レーザ光源と、この光源から出射されたレーザ光を被加工部に集光する照射光学系と、レーザ光の集光位置を加工対象となる半導体デバイスのヒューズに合わせる機構と、を含むレーザリペア装置であって;上記加工レーザ光源として、YAGレーザの3倍高調波又は4倍高調波を用いることを特徴とするレーザリペア装置。
IPC (5):
B23K 26/00 320 ,  B23K 26/02 ,  B23K 26/06 ,  H01L 21/82 ,  H01S 3/109
FI (6):
B23K 26/00 320 ,  B23K 26/02 C ,  B23K 26/06 A ,  B23K 26/06 E ,  H01S 3/109 ,  H01L 21/82 F

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