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J-GLOBAL ID：200903031635136900

紫外線遮蔽ガラス保護膜形成用組成物および紫外線遮蔽ガラス

Inventor： 三谷 真人 ,  吉井 茂晴
Applicant, Patent owner： 電気化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992146991
Publication number (International publication number)：1993311120
Application date： May. 13, 1992
Publication date： Nov. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 紫外線遮蔽ガラスの保護膜形成用組成物、及び該組成物で被覆された紫外線遮蔽ガラスの提供。【構成】 下記の一般式(I)で示される構造を少なくとも1分子中に1つ以上含み、1 H-NMRスペクトルの(δ4.3ppmにピークを持つ吸収面積)/(δ4.2〜4.8ppmにピークを持つ吸収面積)の比が0.13〜0.45の間にあり、数平均分子量が200〜100,000であるポリシラザンを必須成分として含有することを特徴とする紫外線遮蔽ガラスの保護膜形成用組成物、一般式(I)【化1】および、紫外線遮断膜により被覆されたガラスの最外層に、上記の組成物を被覆してなることを特徴とする紫外線遮蔽ガラス。

Claim (excerpt)：

下記の一般式(I)で示される構造を少なくとも1分子中に1つ含み、1 H-NMRスペクトルの(δ4.3ppmにピークを持つ吸収面積)/(δ4.2〜4.8ppmにピークを持つ吸収面積)の比が0.13〜0.45の間にあり、数平均分子量が200〜100,000であるポリシラザンを必須成分として含有することを特徴とする紫外線遮蔽ガラスの保護膜形成用組成物。一般式(I)【化1】

IPC (3)：

C09D183/16 PMV ,  C03C 17/32 ,  B32B 17/10