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J-GLOBAL ID:200903031646998598

炭化水素油用水素化処理触媒の製造方法及び炭化水素油の水素化処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 平石 利子 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001037927
Publication number (International publication number):2002239385
Application date: Feb. 15, 2001
Publication date: Aug. 27, 2002
Summary:
【要約】【課題】 軽油中の硫黄分を大幅に低減することができる水素化処理用触媒の製造方法と、この触媒を用いる水素化処理方法を提供する。【解決手段】 80質量%より多く99.5質量%以下のアルミナと、0.5質量%以上20質量%未満のゼオライト、ボリア、シリカ、ジルコニアの何れかを少なくとも1つ有する複合酸化物担体に、6族金属塩を含む第1の溶液を触媒基準、酸化物換算で6族金属が10〜30重量%となるように含浸担持し、乾燥し、焼成するかしないで、8族金属塩と、水酸基、エーテル結合、カルボキシル基、アミノ基の何れかを少なくとも1つ有する有機化合物を含む第2の溶液を触媒基準、酸化物換算で8族金属が1〜15重量%となるように含浸担持し、乾燥する。この触媒の存在下、水素分圧3〜8MPa、300〜420°C、液空間速度0.3〜5hr-1で、硫黄分を含む軽油留分の接触反応を行う。
Claim (excerpt):
80質量%より多く99.5質量%以下のアルミナと、0.5質量%以上20質量%未満のゼオライト、ボリア、シリカ、ジルコニアの何れかを少なくとも1つ有する複合酸化物担体に、周期律表第6族金属塩を含む第1の溶液を、触媒基準、酸化物換算で、該第6族金属が10〜30重量%となるように含浸担持させ、乾燥の後、周期律表第8族金属塩と、水酸基、エーテル結合、カルボキシル基、アミノ基の何れかを少なくとも1つ有する有機化合物とを含む第2の溶液を、触媒基準、酸化物換算で、該第8族金属が1〜15重量%となるように含浸担持させ、乾燥させることを特徴とする炭化水素油用水素化脱硫触媒の製造方法。
IPC (4):
B01J 23/88 ,  B01J 29/16 ,  B01J 37/02 101 ,  C10G 45/08
FI (4):
B01J 23/88 M ,  B01J 29/16 M ,  B01J 37/02 101 D ,  C10G 45/08 Z
F-Term (61):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BA02A ,  4G069BA03A ,  4G069BA03B ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BA07A ,  4G069BA07B ,  4G069BA20A ,  4G069BA20B ,  4G069BA21C ,  4G069BB01A ,  4G069BB01B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC57A ,  4G069BC59A ,  4G069BC59B ,  4G069BC60A ,  4G069BC65A ,  4G069BC67A ,  4G069BC67B ,  4G069BC68A ,  4G069BD02A ,  4G069BD02B ,  4G069BD03A ,  4G069BD03B ,  4G069BD07B ,  4G069BE06C ,  4G069BE07C ,  4G069BE08C ,  4G069BE14C ,  4G069CC02 ,  4G069EA02Y ,  4G069EB18Y ,  4G069EC03Y ,  4G069EC07Y ,  4G069EC14Y ,  4G069EC15Y ,  4G069EC21Y ,  4G069FA02 ,  4G069FB19 ,  4G069FC04 ,  4G069ZA03A ,  4G069ZA04A ,  4G069ZA04B ,  4G069ZA05A ,  4G069ZA06A ,  4G069ZA11A ,  4G069ZA12A ,  4G069ZA13A ,  4G069ZA16A ,  4G069ZA19A ,  4G069ZA35A ,  4G069ZF05A ,  4G069ZF05B ,  4H029CA00 ,  4H029DA00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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