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J-GLOBAL ID：200903031648927973
インダクタンス可変要素を用いた電気的に同調された整合回路網
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長谷川 芳樹 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995280511
Publication number (International publication number)：1996264297
Application date： Oct. 27, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 プラズマ処理システムにおいて、応答の迅速な電気的に調整可能なインダクタンス要素を用いた整合回路網を提供する。【解決手段】 本プラズマ処理システムは、操作中に、制御回路が制御信号を介して、RF発生器からプロセスチャンバ内のプラズマへの電力の伝達を制御するように、整合回路網を電気的に調整する制御回路を備える。整合回路網は、磁場強度Hと磁束密度Bの間に非線形の関係を示す物質でできたコア54を有する電気的同調可能な可変インダクタを有する。このコア54は、中心開口66を画する閉ループとして構成される。磁化コイル56,58がコア54の周囲に巻かれて、コア54が磁化コイル56,58のための閉磁束経路を形成する。更に、閉ループコアの周囲には、RF発生器からの高周波電流信号を受容する端子を有するRFコイル50が形成される。
Claim (excerpt)：
電子デバイスの製造に用いられるプラズマ処理システムであって、前記システムは、RF発生器と、該RF発生器により電力が与えられた際にプラズマを発生させるための電気的負荷を有するプロセスチャンバと、該RF発生器と該プロセスチャンバの該電気的負荷の間に接続された電気的に同調可能な整合回路網であって、操作中において前記整合回路網は該RF発生器からの電力を該プロセスチャンバ内のプラズマへ結合させる、前記整合回路網と、該整合回路網に接続されて制御信号を発生する制御回路であって、操作中において、前記制御回路は制御信号を介して、該RF発生器から該プロセスチャンバ内のプラズマへの電力の伝達を制御するように、該整合回路網を電気的に調整する、前記制御回路とを備え、前記整合回路網は、磁界強度Hと磁束密度Bの間の関係が非線形を示す材料製のコアであって、前記コアは中心の開口を画する閉ループとして構成される、前記コアと、前記コア上の第1の磁化コイルであって、前記第1の磁化コイルは前記開口を通過するように前記コアの周りを前記第1の磁化コイルの周囲を巻いて、前記コアが前記第1の磁化コイルへの閉じた磁束経路を形成し、前記第1の磁化コイルは、前記第1の磁化コイルの巻線へ該制御回路からの制御信号を結合させる2つの入力端子を有する、前記第1の磁化コイルと、前記閉ループコアの外側の周囲に形成された1次コイルであって、前記1次コイルは、該閉ループコアの透磁率を変化させる制御信号によってその値が制御される可変インダクンスを前記1次コイルが示すような方法で形成され、前記1次コイルは該RF発生器からの高周波電流信号を受容する入力端子を有する、前記1次コイルとを有する電気的に同調可能な可変インダクタを有するプラズマ処理システム。
IPC (2)：
FI (2)：
H05H 1/46 R
, H01L 21/302 B
