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J-GLOBAL ID:200903031656169700

水処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須山 佐一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994034976
Publication number (International publication number):1995241598
Application date: Mar. 04, 1994
Publication date: Sep. 19, 1995
Summary:
【要約】【目的】 効率よく有機酸に分解して紫外線照射による電力消費量および処理コストを低減する【構成】 原水1に、オゾン添加装置2によりオゾンが添加され、紫外線照射装置3により導かれる。ここで紫外線により原水1中の有機物が有機酸に酸化分解される。ついで活性炭または触媒を充填された過酸化水素除去装置4によりオゾン添加による水中の過酸化水素が分解されて除去され、ついでアニオンまたはアニオン・カチオン混床式イオン交換装置5により、水中の有機酸が吸着され除去される。
Claim (excerpt):
被処理水にオゾンを添加するオゾン添加装置と、オゾンを添加された被処理水に紫外線を照射し水中の有機物を分解する紫外線照射装置とを備えたことを特徴とする水処理装置。
IPC (10):
C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 504 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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