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J-GLOBAL ID：200903031665279667

荷電粒子ビーム装置およびその運転方法

Inventor：
平本 和夫

About 平本 和夫

, 
秋山 浩

About 秋山 浩

, 
松田 浩二

About 松田 浩二


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997227759
Publication number (International publication number)：1998118204
Application date： Aug. 25, 1997
Publication date： May. 12, 1998
Summary：
【要約】【課題】荷電粒子ビームの損失を低減した荷電粒子ビーム装置とその運転方法を提供する。【解決手段】患部形状等の情報に基づき予め、演算装置131でビームの水平方向の照射点と必要な線量を定めておく。水平方向の照射点の間隔は、散乱体300で広げたビームの径の半分程度以下にすることが望ましい。照射位置設定用の電磁石220,221の電源装置160を制御装置132で制御する。【効果】荷電粒子ビームの損失を少なくして、均一な照射野を形成することができる。
Claim (excerpt)：
荷電粒子加速器を備え、前記荷電粒子加速器によって供給される荷電粒子ビームを照射対象に照射する荷電粒子ビーム装置において、荷電粒子ビームの径を拡大する散乱体と、前記荷電粒子ビームの出射および停止を切り替える出射切り替え手段と、前記荷電粒子ビームの照射位置を設定する電磁石と、前記荷電粒子ビームを停止中に前記電磁石を制御して前記照射位置を変更させる制御装置とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
IPC (3)：
A61N 5/10 ,  G21K 5/04 ,  H05G 2/00
FI (4)：
A61N 5/10 J ,  G21K 5/04 A ,  G21K 5/04 S ,  H05G 1/00 L
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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