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J-GLOBAL ID：200903031666947574

基板処理装置

Inventor： 小山 芳弘
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993345150
Publication number (International publication number)：1995171478
Application date： Dec. 20, 1993
Publication date： Jul. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】 装置全体を小型化できながら処理効率を向上できるようにする。【構成】 水平方向に基板Wを搬送可能な第1の基板搬送手段7を有する第1の処理ユニット2と、水平方向に基板Wを搬送可能な第2の基板搬送手段18を有する第2の処理ユニット3との間に、2個の並行処理用の第3の冷却処理部19,19を設け、第1および第2の基板搬送手段7,18それぞれによって基板Wを第3の冷却処理部19,19に搬入でき且つ搬出できるように構成する。

Claim (excerpt)：

水平方向に基板を搬送可能な第1の基板搬送手段を有する第1の処理ユニットと、水平方向に前記基板を搬送可能な第2の基板搬送手段を有する第2の処理ユニットとの間に、前記第1および第2の基板搬送手段の少なくとも一方によって前記基板を搬入するとともに他方によって前記基板を搬出する複数の並行処理用の基板処理部を設けたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4)：

B05C 11/08 ,  B05C 13/02 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68