Pat
J-GLOBAL ID：200903031694075930
エツジライトパネルの面積比漸増乱反射パターン
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
田村 公総
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991077407
Publication number (International publication number)：1993134251
Application date： Feb. 27, 1991
Publication date： May. 28, 1993
Summary：
【要約】[目的] 液晶バックライト等のエッジライトパネルを3mm,2mm,或いは1.5mmという如くに薄肉化すると,条件的に苛酷となり,面積漸増乱反射パターンの最大面積比部位近傍が暗く不均一になったり,最大面積比部位に筋目横走り状の異常光輝線が出現したりする。本発明はこれらを解決したエッジライトパネルの面積漸増乱反射パターンを提供することを目的とする。[構成] エッジライトパネル2の面積漸増乱反射パターン4における最大面積比部位5の一次光源9側に位置する,7a〜7dの4行の乱反射点6間に,部分的な乱反射線とした乱反射接続手段7を介設したものである。乱反射接続手段7は,それ自体乱反射手段として乱反射点6とともに入射光の乱反射を行い最大面積比部位5近傍の暗さを解消し,また,最大面積比部位5に対して防波堤,消波ブロックの如くに入射光をコントロールして,過剰入射光に起因すると見られる異常光輝線の出現を防止する。
Claim (excerpt)：
一次光源を基準として面内方向に漸増せしめた最大面積比部位の一次光源側に位置する乱反射点を,該一次光源長手方向に添って部分的に接続せしめるよう,乱反射点間に乱反射接続手段を介設してなることを特徴とするエッジライトパネルの面積比漸増乱反射パターン。
IPC (3)：
G02F 1/1335 530
, G02B 5/02
, G02B 6/00 331
