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J-GLOBAL ID：200903031699392896

多孔性シリカ

Inventor： 花畑 博之 ,  井岡 崇明
Applicant, Patent owner： 旭化成株式会社
Agent (1)： 武井 英夫 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999300720
Publication number (International publication number)：2001118841
Application date： Oct. 22, 1999
Publication date： Apr. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】 機械的強度の優れた多孔性シリカ薄膜を提供する。【解決手段】 多孔性シリカの空孔率が高くて、空孔径がナノメーターサイズであり、さらに構造中に特定量の有機ポリマーまたはその変性物が残存する多孔性シリカ薄膜。

Claim (excerpt)：

アルコキシシラン類の加水分解・縮合反応により得られるシリカと有機ポリマーとの複合体から有機ポリマーを除去して得られる多孔性シリカ薄膜であって、シリカ内の有機物由来の残留物が3〜15重量%であり、その空孔率が30〜80%、最大孔径が50nm以下であることを特徴とする多孔性シリカ薄膜。

IPC (4)：

H01L 21/316 ,  C01B 33/00 ,  H01L 21/283 ,  H01L 21/768

FI (4)：

H01L 21/316 G ,  C01B 33/00 ,  H01L 21/283 P ,  H01L 21/90 S

F-Term (40)：

4G072AA28 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072EE05 ,  4G072EE07 ,  4G072FF09 ,  4G072GG01 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ38 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK01 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072LL15 ,  4G072MM01 ,  4G072MM02 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072PP17 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072TT30 ,  4G072UU30 ,  4M104EE14 ,  4M104HH09 ,  5F033RR09 ,  5F033SS22 ,  5F033WW00 ,  5F033WW02 ,  5F033XX12 ,  5F033XX23 ,  5F058BA10 ,  5F058BA20 ,  5F058BC05 ,  5F058BC20 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01 ,  5F058BJ01 ,  5F058BJ02