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J-GLOBAL ID：200903031723551267

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 藤森 亨 ,  丹 史郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998240537
Publication number (International publication number)：2000075487
Application date： Aug. 26, 1998
Publication date： Mar. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】 パターンプロファイルの形状が優れ、高感度で高解像力を有し、且つ耐熱性に優れる、化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (a)特定の構造の基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物、(b)水に不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、及び(c)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)下記一般式(I)で示される基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物、(b)水に不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、及び(c)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(式(I)中、R1 、R2 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、Wは2価の有機基を表し、R3 は置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基を表す。)

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (13)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20