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J-GLOBAL ID：200903031729956579
マイクロ波プラズマ処理装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993119516
Publication number (International publication number)：1994333697
Application date： May. 21, 1993
Publication date： Dec. 02, 1994
Summary：
【要約】【構成】マイクロ波をプラズマへ放射する平面状アンテナ5と磁場を発生させる電磁石または永久磁石を備え、電子サイクロトロンの効果を利用して電子を加速して中性ガスを衝突電離することによりプラズマを発生させるプラズマ処理装置において、平面アンテナを複数のアンテナ電極素子で構成し、発振器からのマイクロ波出力をストリップライン回路で分配し、各アンテナ電極素子に給電し、各アンテナ電極素子への給電線のインピーダンスを変化させる。【効果】基板上に均一にプラズマが効率良く一様に発生できるので、基板への成膜やエッチング等の処理が均一に高効率で行える。さらに、大面積基板を処理する場合にも、任意の形状,面積でプラズマを発生させ処理を行える。
Claim (excerpt)：
マイクロ波をプラズマへ放射する平面状アンテナと磁場を発生させる電磁石または永久磁石を備え、前記マイクロ波で電子を加速して中性ガスを衝突電離することによりプラズマを発生させるプラズマ処理装置において、前記平面アンテナとプラズマ発生領域との境界に前記マイクロ波が透過可能な材質で且つ処理過程において不純物混入の影響の小さい材質により前記平面状アンテナとプラズマとを分離し、前記平面状アンテナのマイクロ波給電側に前記マイクロ波の真空波長の2分の1以下の距離に金属板を設け、前記金属板の前記平面状アンテナと反対側に設けた誘電体上又は前記金属板から一定の距離に設けたストリップライン回路により前記平面状アンテナの各部にマイクロ波を分配し給電したことを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (4)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, H01L 21/205
, H01L 21/302
