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J-GLOBAL ID：200903031764066772

プラズマ処理装置

Inventor： 小河原 米一
Applicant, Patent owner： 日電アネルバ株式会社
Agent (1)： 鈴木 利之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993292547
Publication number (International publication number)：1995126872
Application date： Oct. 29, 1993
Publication date： May. 16, 1995
Summary：

【要約】【目的】 石英またはセラミック製のプラズマ生成部真空容器を2重構造にして破損に対してより安全な構造にする。【構成】 プラズマ生成部の真空容器18は内側容器34と外側容器36とで構成されており、いずれも石英ガラスまたはセラミックでできている。内側容器34と外側容器36の間の壁間空間38は真空排気してから気密封止してある。外側容器36と内側容器34のどちらか一方が破損しても、プラズマ生成空間40は真空容器18の外部と連通することがない。壁間空間38にヘリウムガスを満たして、基板処理室にヘリウムガス分圧真空計を設置すれば、内側容器の破損を検知できる。また、壁間空間38にヘリウムガスを満たして、壁間空間38または外側容器36の外壁面に、温度調節用媒体を流すためのパイプを配置すれば、真空容器18の温度調節ができる。

Claim (excerpt)：

プラズマ生成部の真空容器を内側容器と外側容器とで構成し、内側容器と外側容器の間の壁間空間を気密に封止したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5)：

C23F 4/00 ,  C23C 16/50 ,  H01J 5/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065