半導体製造装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三好祥二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000060212
Publication number (International publication number)：2001250820
Application date： Mar. 06, 2000
Publication date： Sep. 14, 2001
Summary：

【要約】【課題】ガストラップ装置の容量を大きくして詰り難くし、メンテナンス周期を長くし、且つ製作工数を少なくして製作を容易にし、製作コストの低減を図る。【解決手段】反応室に反応ガスを供給して被処理基板を処理し、ガス排気管に設けられたガストラップ装置26により排気ガスから反応副生成物を分離除去する半導体製造装置に於いて、前記ガストラップ装置が前記ガス排気管よりも大径の内側パイプ27と該内側パイプと同心の外側パイプ38により両パイプ間にジャケット15が形成され、前記内側パイプの内部にスパイラルチューブ28が配設され、前記内側パイプに前記外側パイプに達する冷却媒体導入用コマ30を取付けると共に前記内側パイプに前記ジャケットに開口する冷却媒体排出用コマ20を取付け、前記スパイラルチューブの一端を前記冷却媒体導入用コマに接続し、他端を前記冷却媒体排出用コマに接続し、前記外側パイプに給媒体チューブ23、排媒体チューブ24を接続し、前記給媒体チューブを前記冷却媒体導入用コマに連通させ、前記排媒体チューブを前記ジャケットに連通した構成とした。

Claim (excerpt)：

反応室に反応ガスを供給して被処理基板を処理し、ガス排気管に設けられたガストラップ装置により排気ガスから反応副生成物を分離除去する半導体製造装置に於いて、前記ガストラップ装置が前記ガス排気管よりも大径の内側パイプと該内側パイプと同心の外側パイプにより両パイプ間にジャケットが形成され、前記内側パイプの内部にスパイラルチューブが配設され、前記内側パイプに前記外側パイプに達する冷却媒体導入用コマを取付けると共に前記内側パイプに前記ジャケットに開口する冷却媒体排出用コマを取付け、前記スパイラルチューブの一端を前記冷却媒体導入用コマに接続し、他端を前記冷却媒体排出用コマに接続し、前記外側パイプに給媒体チューブ、排媒体チューブを接続し、前記給媒体チューブを前記冷却媒体導入用コマに連通させ、前記排媒体チューブを前記ジャケットに連通した構成であることを特徴とする半導体製造装置。

IPC (4)：

H01L 21/31 , B01D 8/00 , C23C 16/44 , H01L 21/3065

FI (4)：

H01L 21/31 B , B01D 8/00 Z , C23C 16/44 E , H01L 21/302 B

F-Term (15)：

4D076BE08 , 4D076HA12 , 4D076JA03 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030EA12 , 4K030KA49 , 5F004AA15 , 5F004BC02 , 5F045AA03 , 5F045AB33 , 5F045AC02 , 5F045AC12 , 5F045BB08 , 5F045EG08

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