気体の清浄方法及び装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：吉嶺桂 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993216859
Publication number (International publication number)：1994205930
Application date： Aug. 10, 1993
Publication date： Jul. 26, 1994
Summary：

【要約】【目的】単成分あるいは複合成分からなる有害ガスによる汚染に対して有効で、かつ微粒子除去機能も備えることのできる効果的な気体の清浄方法と装置を提供する。【構成】有害成分を含む気体の清浄方法において、該気体を紫外線照射11して発生するオゾンと接触させた後、オゾン分解能及び有害物質吸着能をもつ複合酸化物系触媒12と接触させることとしたものであり、前記紫外線照射を光電子発生材13の存在下に行い、発生する光電子による気体中の微粒子の除去14を同時に行うこともでき、また、前記光電子放出材をスクリーン状光電子放出材とすることができる。

Claim (excerpt)：

有害成分を含む気体の清浄方法において、該気体を紫外線照射して発生するオゾンと接触させた後、オゾン分解能及び有害物質吸着能をもつ複合酸化物系触媒と接触させることを特徴とする気体の清浄方法。

IPC (7)：

B01D 53/34 116 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/32 ZAB , B01D 53/36 ZAB , B03C 3/38 ZAB , F24F 7/00 , B01D 53/02 ZAB

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭63-077557
紫外線ランプ及び同ランプを備えたエチレン除去装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-138726 Applicant：三菱重工業株式会社, 中菱エンジニアリング株式会社
特開平2-010034

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