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J-GLOBAL ID:200903031814205973

増感オニウム塩

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993307616
Publication number (International publication number):1994263720
Application date: Dec. 08, 1993
Publication date: Sep. 20, 1994
Summary:
【要約】 (修正有)【構成】 下記構造:(R1)a(R2)b(R3)cQ+-A-M+ X--B-X′-〔式中、QはI、SまたはPであり;R1、R2およびR3は独立して、置換または未置換の、炭素原子7〜18個を有する芳香族基、脂肪族基またはアラルキル基であり;M+はカチオン有機性基であり;Aは、遮蔽されたアルキレン基、置換または未置換の芳香族基またはアラルキル基よりなる群から選択される二価の基であり;Bは300nmより長い波長を有する放射線を吸収し、電子をQに伝達することのできる二価の芳香族増感剤であり;X-およびX′-はアニオン基である。〕を有する光化学放射線に曝露することにより酸を発生することのできるオニウム塩。【効果】 このオニウム塩は酸に不安定な重合体中で露光によって酸を発生するので、フォトレジスト、リトグラフ印刷エレメント製造、印刷インキなどの用途に有用である。
Claim (excerpt):
下記構造:(R1)a(R2)b(R3)cQ+-A-M+ X--B-X′-〔式中、QはI、SまたはPであり;R1、R2およびR3は独立して、炭素原子6〜12個を有する芳香族基であり、これはヒドロキシル、アルコキシル、アミノまたはアルキルアミノ基で置換されていてよく;または、炭素原子1〜12個を有する脂肪族基であり、これはヒドロキシル、アルコキシル、アミノまたはアルキルアミノ基で置換されていてよく;または炭素原子7〜18個を有するアラルキル基であり、これは、ヒドロキシル、アルコキシル、アミノまたはアルキルアミノ基で置換されていてよく;M+はカチオン有機性基であり;Aは、炭素原子4〜12個を有する遮蔽されたアルキレン基;炭素原子6〜18個を有する芳香族基、ただしヒドロキシル、アルコキシル、アミノまたはアルキルアミノ基で置換されていてよいもの;および、炭素原子7〜24個を有するアラルキル基、ただしヒドロキシル、アルコキシル、アミノまたはアルキルアミノ基で置換されていてよいもの、よりなる群から選択される二価の基であり;Bは300nmより長い波長を有する放射線を吸収し、電子をQに伝達することのできる二価の芳香族増感剤であり;X-およびX′-はアニオン基であり;そして、QがIである場合;aは1であり、bおよびcは0であり、QがSである場合;cは0であり、aおよびbは0、1または2であるが、R1およびR2が一価の基である場合はa+b=2であり;R1またはR2が二価の基である場合はa+b=1であり;QがPである場合;a、bおよびcは0、1、2または3であるが、R1、R2およびR3が一価の基である場合はa+b+c=3であり;R1、R2またはR3が二価の基である場合はa+b+c=2であり;AはQとMの間に空間的分離を与え、そしてBはXとX′の間に空間的分離を与え、これによりQとMの間にAにより与えられた空間的分離は、XとX′の間にBにより与えられた空間的分離と実質的に同様となる〕を有する光化学放射線に曝露することにより酸を発生することのできるオニウム塩。
IPC (4):
C07C381/12 ,  C07F 9/54 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/029

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