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J-GLOBAL ID：200903031843319767

欠陥検出方法及びその装置並びにマスクの製造方法

Inventor： 奥田 健太郎
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000078416
Publication number (International publication number)：2001266126
Application date： Mar. 21, 2000
Publication date： Sep. 28, 2001
Summary：

【要約】【課題】参照画像データの誤差による疑似欠陥を排除して微小な欠陥を精度高く検出する。【解決手段】マスク6をセンサ4により撮像して得られたセンサ画像データと参照画像データとを比較してマスク6に形成されたマスクパターンの欠陥を検出するに際し、参照画像データに生じた誤差を高精度参照画像発生部9により発生した高精度参照画像データを用いてデータ識別部11により識別し、この識別結果に基づいてマスクパターンの欠陥検出の結果を修正登録部12により修正登録する。

Claim (excerpt)：

被検査体を撮像して得られた画像データと参照画像データとを比較して前記被検査体の欠陥を検出する欠陥検出方法において、前記参照画像データに生じた誤差を識別し、この識別結果に基づいて前記欠陥検出の結果を修正することを特徴とする欠陥検出方法。

IPC (4)：

G06T 1/00 305 ,  G01N 21/956 ,  G06T 7/00 300 ,  H04N 7/18

FI (4)：

G06T 1/00 305 A ,  G01N 21/956 A ,  G06T 7/00 300 E ,  H04N 7/18 K

F-Term (28)：

2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051CA04 ,  2G051EB09 ,  5B057AA03 ,  5B057BA11 ,  5B057CA16 ,  5B057CB16 ,  5B057CE02 ,  5B057CH07 ,  5B057CH11 ,  5B057DA03 ,  5B057DA06 ,  5B057DC16 ,  5B057DC32 ,  5C054AA05 ,  5C054CC02 ,  5C054EB05 ,  5C054EB07 ,  5C054FC01 ,  5C054HA03 ,  5C054HA05 ,  5L096BA03 ,  5L096BA20 ,  5L096CA03 ,  5L096EA27 ,  5L096JA03