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J-GLOBAL ID：200903031844324381

エマルションならびにマイクロカプセルの製造方法およびその装置

Inventor： 樋口 俊郎 ,  鳥居 徹 ,  西迫 貴志 ,  谷口 友宏
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団
Agent (1)： 清水 守
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2002001186
Publication number (International publication number)：WO2002068104
Application date： Feb. 13, 2002
Publication date： Sep. 06, 2002
Summary：

簡便に、しかも迅速にエマルションならびにマイクロカプセルを生成させることができるエマルションならびにマイクロカプセルの製造方法およびその装置を提供する。マイクロチャンネル(2)中を流れる連続相(5)に対し、分散相(6)を前記連続相(5)の流れに交差する向きで分散相供給口(4)より排出し、前記連続相(5)の剪断力によって、前記分散相(6)の供給チャンネルの幅より径の小さい微小液滴(7)を得る。

Claim (excerpt)：

マイクロチャンネル中を流れる連続相に対し、分散相を前記連続相の流れに交差する向きで分散相供給口より排出し、前記連続相の剪断力によって、微小液滴を生成し、該微小液滴の径を制御することを特徴とするエマルションの製造方法。

IPC (4)：

B01F3/08 ,  B01J13/00 ,  B01J13/04 ,  B81C5/00

FI (4)：

B01F3/08 A ,  B01J13/00 A ,  B81C5/00 ,  B01J13/02 A