ケイ素化合物の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：恩田博宣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999050159
Publication number (International publication number)：2000247981
Application date： Feb. 26, 1999
Publication date： Sep. 12, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】暴走反応を抑制して安定した状態で反応を行うことができるとともに、効率良くケイ素化合物を得ることができるケイ素化合物の製造方法を提供する。【解決手段】下記式(III) に示すケイ素化合物は、下記式(I)に示す化合物のアリル基と、下記式(II)に示すヒドロシリル基とを、触媒の存在下にヒドロシリレーション反応させることにより製造される。このとき、反応温度が70°Cを越えて100°C以下の温度範囲内に制御される。また、ヒドロシリレーション反応は、反応開始から反応終了に至るまで前記式(I)に示す化合物の量が、式(II)に示す化合物の量に対して過剰となる条件下で行われる。(但し、Rは水素又は炭素数1〜6のアルキル基である。)(但し、R′はアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。)(但し、R、R′は前述のとおりである。)

Claim (excerpt)：

下記式(I)に示す構造式で表される化合物のアリル基と、下記式(II)に示す構造式で表される化合物のヒドロシリル基とを、触媒の存在下に、反応温度を70°Cを越えて100°C以下の範囲内に保持しつつ、ヒドロシリレーション反応させて下記式(III) に示す構造式で表されるケイ素化合物を得ることを特徴とするケイ素化合物の製造方法。【化1】(但し、Rは水素又は炭素数1〜6のアルキル基である。)【化2】(但し、R′はアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。)【化3】(但し、Rは水素又は炭素数1〜6のアルキル基であり、R′はアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。)

IPC (3)：

C07F 7/08 , C07F 7/18 , C08G 65/22

FI (3)：

C07F 7/08 S , C07F 7/18 S , C08G 65/22

F-Term (23)：

4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VQ02 , 4H049VQ19 , 4H049VQ20 , 4H049VQ58 , 4H049VR21 , 4H049VR23 , 4H049VR24 , 4H049VR41 , 4H049VR43 , 4H049VS11 , 4H049VS23 , 4H049VS41 , 4H049VS43 , 4H049VT17 , 4H049VU20 , 4H049VU21 , 4H049VU22 , 4H049VV02 , 4H049VV16 , 4H049VW32 , 4J005AA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

硬化性組成物、硬化性金属酸化物粒子および硬化性金属酸化物粒子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-194817 Applicant：ジェイエスアール株式会社
特公昭42-010868
光カチオン重合性有機ケイ素化合物及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-140984 Applicant：東亞合成株式会社

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