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J-GLOBAL ID：200903031935975466

超純水製造装置

Inventor： 知野 秀一 ,  中村 穰 ,  阿部 嗣 ,  木暮 雅彦
Applicant, Patent owner： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996020039
Publication number (International publication number)：1997206740
Application date： Feb. 06, 1996
Publication date： Aug. 12, 1997
Summary：

【要約】【課題】超純水中のTOC濃度および溶存酸素濃度の増加と二次系システムを構成する機器の劣化とをほぼ防止する超純水製造装置を提供すること。【解決手段】一次純水から超純水を製造する超純水製造装置において、180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置と、アニオン交換樹脂を充填した単床式イオン交換装置と、膜脱気装置と、混床式イオン交換装置とを流路に沿って配置したことを特徴とする超純水製造装置および一次純水から超純水を製造する超純水製造装置において、180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置と、アニオン交換樹脂を充填した単床式イオン交換装置と、不活性ガス添加型真空脱気装置と、混床式イオン交換装置とを流路に沿って配置したことを特徴とする超純水製造装置による。

Claim (excerpt)：

一次純水から超純水を製造する超純水製造装置において、180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置と、アニオン交換樹脂を充填した単床式イオン交換装置と、膜脱気装置と、混床式イオン交換装置とを流路に沿って配置したことを特徴とする超純水製造装置。

IPC (8)：

C02F 1/32 ,  B01D 19/00 ,  B01D 19/00 101 ,  B01J 47/02 ,  B01J 47/04 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44

FI (8)：

C02F 1/32 ,  B01D 19/00 H ,  B01D 19/00 101 ,  B01J 47/02 C ,  B01J 47/04 B ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/44 J