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J-GLOBAL ID：200903031947514600

3次元フォトニック結晶体及びその製造方法

Inventor： 坂本 直志 ,  野呂 治人 ,  榊原 正毅
Applicant, Patent owner： 昭和電線電纜株式会社
Agent (1)： 守谷 一雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000134086
Publication number (International publication number)：2001318247
Application date： May. 08, 2000
Publication date： Nov. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】光導波路を伝播する光に対しTMモード、TEモードに共通のフォトニックバンドを有する3次元フォトニック結晶体を得る。また、その製造方法を容易にする。【解決手段】3次元フォトニック結晶体は誘電率の異なる2種の誘電体で構成され、少なくとも一方の誘電体を有機高分子化合物で形成する。3次元フォトニック結晶体を作成するには、基板1上に有機高分子化合物膜2、3を積層し、有機高分子化合物膜上に金属膜4を積層する。金属膜上に有機レジストを塗布しフォトリソグラフィーにより有機レジストを所望のパターンに形成し、有機レジストをマスクとして金属膜を所望のパターンに形成する。その後金属膜をマスクとして有機高分子化合物膜を所望のパターンに形成する。上記工程を反復する。

Claim (excerpt)：

誘電率の異なる2種以上の誘電体で形成される3次元フォトニック結晶体であって、少なくとも1種の誘電体が有機高分子化合物からなることを特徴とする3次元フォトニック結晶体。

IPC (2)：

G02B 6/12 ,  G02B 6/13

FI (3)：

G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 Z

F-Term (9)：

2H047KA03 ,  2H047LA18 ,  2H047PA03 ,  2H047PA04 ,  2H047PA24 ,  2H047QA05 ,  2H047RA08 ,  2H047TA05 ,  2H047TA44