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J-GLOBAL ID：200903031949253420

高分子超微粒子吸着構造体及びその製造方法

Inventor： 明石 満 ,  芹澤 武 ,  谷口 孝太
Applicant, Patent owner： 明石 満 ,  ユニケミカル株式会社
Agent (1)： 高石 橘馬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997165293
Publication number (International publication number)：1998337794
Application date： Jun. 06, 1997
Publication date： Dec. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】 帯電防止性、低摩擦性、耐摩耗性等の表面特性に優れているとともに表面積が大きい高分子超微粒子吸着構造体、及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の高分子超微粒子吸着構造体は、基板表面に形成された荷電性高分子薄膜上にマクロモノマー法により合成された荷電性高分子超微粒子を吸着させることにより得られる。高分子超微粒子は表面に荷電性のグラフト鎖を有し、平均粒径は10nm〜5μm である。高分子薄膜は、カチオン性の電荷を有する水溶性高分子と、アニオン性の電荷を有する水溶性高分子とが少なくとも一層ずつ交互に積層してなるのが好ましい。

Claim (excerpt)：

基板表面に形成された荷電性高分子薄膜上に、マクロモノマー法により合成された荷電性高分子超微粒子が吸着していることを特徴とする高分子超微粒子吸着構造体。

IPC (5)：

B32B 5/16 ,  B32B 27/06 ,  C08F 2/06 ,  C08J 7/04 ,  C08F 8/00

FI (5)：

B32B 5/16 ,  B32B 27/06 ,  C08F 2/06 ,  C08J 7/04 B ,  C08F 8/00