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J-GLOBAL ID:200903031961956895

露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993161588
Publication number (International publication number):1995057986
Application date: Jun. 30, 1993
Publication date: Mar. 03, 1995
Summary:
【要約】【目的】 露光領域が大きな場合でも、スループットを低下させずに、良好な結像性能のもとで回路パターンを転写できる露光装置を提供すること。【構成】 第1の物体(8) と第2の物体(9) とを移動させつつ第1の物体の像を第2の物体上へ投影露光する露光装置は、第1の物体の等倍の正立像を第2の物体上に形成する第1及び第2の投影光学系 (2a,2b)を有する。第1及び第2の投影光学系は、少なくとも像側がテレセントリックで構成される。
Claim (excerpt):
第1の物体と第2の物体とを移動させつつ前記第1の物体の像を前記第2の物体上へ投影露光する露光装置において、前記第1の物体の等倍の正立像を前記第2の物体上に形成する第1及び第2の投影光学系を有し、前記第1及び第2の投影光学系は、少なくとも像側がテレセントリックで構成されることを特徴とする露光装置。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
  • 特開昭52-015266
  • 特開平4-251812
  • 特開平1-161243
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Cited by examiner (2)
  • 特開昭52-015266
  • 特開平4-251812

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