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J-GLOBAL ID：200903031966276744

シリカ微粒子と低屈折率膜形成用塗料、及び低屈折率膜とその製造方法、並びに反射防止膜

Inventor： 広門 孝雄 ,  木下 暢 ,  柳沢 恒夫
Applicant, Patent owner： 住友大阪セメント株式会社
Agent (7)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002243690
Publication number (International publication number)：2004083307
Application date： Aug. 23, 2002
Publication date： Mar. 18, 2004
Summary：

【課題】機械的強度に優れかつ屈折率の小さいシリカ微粒子、機械的強度、耐擦傷性、透明性に優れた低屈折率膜を形成するための低屈折率膜形成用塗料、このシリカ微粒子を含有することで機械的強度、耐擦傷性、透明性に優れた低屈折率膜とその製造方法、高い透明性、優れた反射防止効果、高い膜強度を有する反射防止膜を提供する。【解決手段】本発明のシリカ微粒子は、細孔を有し、空隙率が30〜90%であり、かつ1次粒子の平均径が5〜100nmであることを特徴とする。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

細孔を有し、空隙率が30〜90%であり、かつ1次粒子の平均径が5〜100nmであることを特徴とするシリカ微粒子。

IPC (3)：

C01B33/18 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00

FI (3)：

C01B33/18 Z ,  C09D7/12 ,  C09D201/00

F-Term (33)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB15 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072FF01 ,  4G072FF06 ,  4G072GG01 ,  4G072GG02 ,  4G072HH21 ,  4G072KK01 ,  4G072RR05 ,  4G072SS04 ,  4G072TT01 ,  4G072TT08 ,  4G072TT30 ,  4G072UU30 ,  4J038CD021 ,  4J038CD091 ,  4J038CE071 ,  4J038CG001 ,  4J038DA041 ,  4J038DA161 ,  4J038DB001 ,  4J038DD001 ,  4J038DG001 ,  4J038DL031 ,  4J038HA446 ,  4J038KA06 ,  4J038KA08 ,  4J038NA09 ,  4J038NA11 ,  4J038NA19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• メソポーラス物質
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-369459   Applicant：旭化成株式会社
• メソポーラスシリカの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-076705   Applicant：旭化成株式会社