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J-GLOBAL ID：200903031992757785
イオン源
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993198335
Publication number (International publication number)：1995057673
Application date： Aug. 10, 1993
Publication date： Mar. 03, 1995
Summary：
【要約】【目的】 基板の発熱が少なく、取扱いが容易なイオン源を提供する。【構成】 プラズマを発生するプラズマ室9を有するイオン源において、プラズマ室9に、アーク放電の陽光柱5を発生させるアークジェット1を接続し、そのアークジェット1に、陽光柱5に直接プラズマ化する粉体を供給する粉体供給口6を設けたことを特徴としている。
Claim (excerpt)：
プラズマを発生するプラズマ室を有するイオン源において、該プラズマ室に、アーク放電の陽光柱を発生させるアークジェットを接続し、そのアークジェットに、前記陽光柱に直接プラズマ化すべく粉体を供給する粉体供給口を設けたことを特徴とするイオン源。
IPC (2)：
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