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J-GLOBAL ID:200903031993837189

基板の温度制御方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三好 秀和 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991247898
Publication number (International publication number):1993090273
Application date: Sep. 26, 1991
Publication date: Apr. 09, 1993
Summary:
【要約】【目的】 基板温度の制御性を向上することを目的とする。【構成】 加熱源としてのヒーター線3を一体に成形したホットプレート1上に基板Aを載置し、ヒーター線3の印加電圧および電流を調節し、ヒーター線3の電気抵抗値が所望の電気抵抗値になるように制御する。
Claim (excerpt):
基板を載置し、この基板を加熱するホットプレートを備えた半導体製造装置において、前記ホットプレートは、その内部にヒーター配線が埋め込まれた構造を有し、前記ヒーター線への印加電圧および電流を制御することにより、前記ヒーター線の電気抵抗値を所望の値にし、前記基板の温度制御を行うことを特徴とする基板の温度制御方法。
IPC (3):
H01L 21/324 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/68
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
  • 特開昭63-065631
  • 特開昭58-145084
  • 特開平2-296273
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Cited by examiner (5)
  • 特開昭63-065631
  • 特開昭63-065631
  • 特開昭58-145084
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