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J-GLOBAL ID：200903032002336019
中空構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉村 暁秀 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999255280
Publication number (International publication number)：2001080976
Application date： Sep. 09, 1999
Publication date： Mar. 27, 2001
Summary：
【要約】【課題】 無機骨格からなるナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体を低温で製造する方法を提供する。【解決手段】 界面活性剤の分子集合体、界面活性剤分子と所定の有機分子を共存させた集合体及び異種の界面活性剤の分子集合体から選択した集合体を鋳型として用い、該集合体とセラミック材料あるいは該セラミック材料の前駆体とを混合して無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体を形成し、該セラミック多孔体の前駆体中の界面活性剤を光酸化により除去することで、ナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体を低温で形成することを特徴とするセラミックス多孔体の製造方法。
Claim (excerpt)：
界面活性剤の分子集合体、界面活性剤分子と所定の有機分子を共存させた集合体及び異種の界面活性剤の分子集合体から選択した集合体を鋳型として用い、該集合体とセラミック材料あるいは該セラミック材料の前駆体とを混合して無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体を形成し、該セラミック多孔体の前駆体中の界面活性剤を光酸化により除去することで、ナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体を低温で形成することを特徴とするセラミックス多孔体の製造方法。
FI (2)：
C04B 38/06 J
, C04B 38/06 G
