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J-GLOBAL ID：200903032033534307

ヨウ素化合物と半導体光触媒による光エネルギー変換

Inventor： 佐山 和弘 ,  荒川 裕則
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001050195
Publication number (International publication number)：2002255502
Application date： Feb. 26, 2001
Publication date： Sep. 11, 2002
Summary：

【要約】【課題】半導体光触媒の存在下に光照射を行って、水から水素と酸素を製造するに際し、効率よく、中性や塩基性条件下であっても、又、可視光を利用することができる新たなレドックスを用いる製造方法の提供。【解決手段】)半導体光触媒及び還元状態から酸化状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って水素を製造する工程、及び半導体光触媒及び酸化状態から還元状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って酸素を製造する工程からなることを特徴とする水素及び酸素の製造方法。

Claim (excerpt)：

半導体光触媒及び還元状態から酸化状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って水素を製造する工程、及び半導体光触媒及び酸化状態から還元状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って酸素を製造する工程からなることを特徴とする水素及び酸素の製造方法。

IPC (6)：

C01B 3/04 ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/58 ,  B01J 23/652 ,  B01J 35/02 ,  C01B 13/02

FI (6)：

C01B 3/04 A ,  B01J 23/42 M ,  B01J 23/58 M ,  B01J 35/02 J ,  C01B 13/02 B ,  B01J 23/64 103 M

F-Term (50)：

4G042BA08 ,  4G042BB04 ,  4G042BC06 ,  4G069AA02 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA21A ,  4G069BA27A ,  4G069BA48A ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC12A ,  4G069BC12B ,  4G069BC17A ,  4G069BC18A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC31A ,  4G069BC32A ,  4G069BC33A ,  4G069BC35A ,  4G069BC36A ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069BC51A ,  4G069BC54A ,  4G069BC55A ,  4G069BC56A ,  4G069BC56B ,  4G069BC58A ,  4G069BC58B ,  4G069BC59A ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069BC62A ,  4G069BC66A ,  4G069BC67A ,  4G069BC69A ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069BE13A ,  4G069CC33