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J-GLOBAL ID：200903032049890650

走査露光装置及び方法、管理装置及び方法、ならびにデバイス製造方法

Inventor： 沖田 晋一 ,  萩原 恒幸
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 恩田 博宣 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001088643
Publication number (International publication number)：2001338870
Application date： Mar. 26, 2001
Publication date： Dec. 07, 2001
Summary：

【要約】【課題】 露光線幅がばらつく原因の解析をいち早く行えるようにした走査露光装置及び方法、管理装置及び方法、ならびにデバイス製造方法を提供する。【解決手段】 マスクMを載置するマスクステージ23と、ウエハWを載置するウエハステージ25と、ウエハWの面位置情報を検出する合焦機構26と、合焦機構26の検出結果に基づいてウエハWの面位置を調整する調整手段27,42とを備える。マスクMのパターンを露光光を用いてウエハW上に投影するとともにウエハWと露光光を相対走査してウエハW上の露光領域を露光する。露光時に調整手段27,42によって調整されたウエハWの姿勢情報を、合焦機構26から取得して、予め求められた露光領域の表面形状情報に対応してメモリに記憶させる制御手段28を有する。姿勢情報と表面形状情報とを使って、ウエハWの露光される面が露光光に対してどのような状態で露光されたかがわかる。

Claim (excerpt)：

基板の面位置情報を検出する面位置検出手段と、前記面位置検出手段の検出結果に基づいて前記基板の面位置を調整する調整手段と、を備え、マスクのパターンの像を露光光を用いて前記基板上に投影するとともに前記基板と前記露光光とを相対走査することによって前記基板上の露光領域を露光する走査露光装置であって、前記面位置検出手段からの検出信号に基づいて、前記露光時に前記調整手段によって調整された前記基板の姿勢情報を得るとともに、該姿勢情報を、予め求められた前記基板上の前記露光領域の表面形状情報に対応付けてメモリに記憶する制御手段を有することを特徴とする走査露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/02

FI (5)：

G01B 11/00 H ,  G03F 7/22 H ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/30 526 B ,  H01L 21/30 518