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J-GLOBAL ID:200903032063124421
円中心位置測定方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石原 勝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994015228
Publication number (International publication number):1995225843
Application date: Feb. 09, 1994
Publication date: Aug. 22, 1995
Summary:
【要約】【目的】 円周上にゴミや欠けがある場合にもこれらの影響を取り除き、高精度で円中心位置を求める。【構成】 二次元の画像データからエッジ点を検出する工程と、エッジ点の集合について平均四乗誤差最小化法によって円弧近似を行い円中心の位置を推定する工程と、推定された円の円周から離れた点を除いたエッジ点集合についての平均四乗最小化法によって再度円弧近似を行い円中心の位置を推定する工程から成る。
Claim (excerpt):
二次元の画像データからエッジ点を検出する工程と、エッジ点の集合について最小二乗法によって円弧近似を行い円中心の位置を推定する工程と、推定された円の円周から離れた点を除いたエッジ点集合について再度円弧近似を行い円中心の位置を推定する工程から成ることを特徴とする円中心位置測定方法。
IPC (4):
G06T 7/60
, G01B 11/00
, G06F 17/17
, G06T 7/00
FI (3):
G06F 15/70 360
, G06F 15/353
, G06F 15/70 330 M
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