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J-GLOBAL ID：200903032094457232

マイクロ波プラズマ処理装置

Inventor： 金 載浩 ,  桂井 誠
Applicant, Patent owner： 桂井 誠
Agent (1)： 高石 橘馬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002279674
Publication number (International publication number)：2004119619
Application date： Sep. 25, 2002
Publication date： Apr. 15, 2004
Summary：

【課題】処理室内のプラズマの空間ポテンシャルを上げることなくマイクロ波導入板に導体板を設置した構造のマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】(a) 処理対象である基板Wを収納する処理室50を有するとともに、壁の一部にマイクロ波が透過可能な誘電体からなるマイクロ波導入板17が気密に設けられた処理容器1と、(b) マイクロ波導入板15に面して処理室50内にマイクロ波を導入するマイクロ波ランチャー11と、(c) マイクロ波導入板15の処理室50側の面に沿って設置され、マイクロ波が透過可能な部位を有する導体板17とを具備し、導体板17と処理容器1が電気的に絶縁されていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

(a) 処理対象である基板を収納する処理室を有するとともに、壁の一部にマイクロ波が透過可能な誘電体からなるマイクロ波導入板が気密に設けられた処理容器と、(b) 前記マイクロ波導入板に面して前記処理室内にマイクロ波を導入するマイクロ波ランチャーと、(c) 前記マイクロ波導入板の前記処理室側の面に沿って設置され、マイクロ波が透過可能な部位を有する導体板とを具備するマイクロ波プラズマ処理装置であって、前記導体板と前記処理容器が電気的に絶縁されていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (4)：

H01L21/205 ,  B01J19/08 ,  C23C16/511 ,  H05H1/46

FI (4)：

H01L21/205 ,  B01J19/08 H ,  C23C16/511 ,  H05H1/46 B

F-Term (27)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA62 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075BD14 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075EC09 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15 ,  4K030FA01 ,  4K030GA02 ,  4K030JA09 ,  4K030KA08 ,  4K030KA20 ,  4K030KA30 ,  4K030KA45 ,  5F045AA09 ,  5F045AB40 ,  5F045AD06 ,  5F045AE17 ,  5F045BB09 ,  5F045DP04 ,  5F045DQ10 ,  5F045EH03