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J-GLOBAL ID：200903032110141968

加圧型下方注入式多段オゾン接触槽

Inventor： 島崎 弘志 ,  鮫島 正一
Applicant, Patent owner： 株式会社明電舎
Agent (1)： 志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995189920
Publication number (International publication number)：1997038672
Application date： Jul. 26, 1995
Publication date： Feb. 10, 1997
Summary：

【要約】【課題】 処理水に対するオゾンガスの吸収効率を高め、コストの低廉化がはかれる上、「促進酸化処理法」の併用に伴って難分解性有機物の分解性を高めることができる多段型オゾン接触槽を提供することを目的とする。【解決手段】 多段オゾン接触槽11と反応槽12とを並置し、オゾン接触槽に挿通された流入管16の被処理水17の流入口にオゾンガスインジェクター部20を形成して上方からオゾンガスの注入ノズル21を配置したキャピラリー散気部18を設け、該流入管16の先端開口部を接触槽11の底壁に対向する位置にまで導入し、この底壁近傍で急縮部19を設け、該急縮部19の上方で流入管16の側方から過酸化水素の供給管23を挿通し、オゾン接触槽11を通過したオゾン処理水10を並置された反応槽12に流入させて有機物を除去したオゾン処理水を得るようにした加圧型下方注入式多段オゾン接触槽を提供する。

Claim (excerpt)：

多段オゾン接触槽と反応槽とを並置し、上記多段オゾン接触槽に挿通された流入管に対する被処理水の流入口に、該流入管の管径を部分的に小径に絞ったオゾンガスインジェクター部が形成されているとともに、このオゾンガスインジェクター部に臨んで上方からオゾンガスの注入ノズルが配置されたキャピラリー散気部を設け、該流入管の先端開口部を多段オゾン接触槽内の最下段に位置する接触槽の底壁に対向する位置にまで導入し、この底壁近傍に位置する流入管の管径を部分的に小径に絞った急縮部を設け、該急縮部の上方近傍に位置する流入管の側方から過酸化水素の供給管を挿通し、多段オゾン接触槽を通過したオゾン処理水を並置された反応槽に流入させて有機物を除去したオゾン処理水を得るようにしたことを特徴とする加圧型下方注入式多段オゾン接触槽。

IPC (4)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/72 101

FI (4)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/72 101