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J-GLOBAL ID：200903032119358099

感光製版用フォトレジストカバーフイルム

Inventor： 田中 茂 ,  朝倉 正芳 ,  深田 国忠
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992238173
Publication number (International publication number)：1994083066
Application date： Sep. 07, 1992
Publication date： Mar. 25, 1994
Summary：

【要約】【構成】 二軸延伸ポリオレフィンフイルム(A層)の少なくとも片面に、粗面層(B層)を積層してなる積層フイルムからなる感光製版用フォトレジストカバーフイルムであって、該粗面層(B層)は1μm以上の粗さ密度PC1が10個/mm以上であり、該積層フイルムは、複屈折率が0.002〜0.010の範囲で、トータルヘイズが10%以上で、ゲルおよびフィッシュアイが5個/100mm2 以下とする。【効果】 粗面で柔軟で平面性が良く、ゲルやフィッシュアイなどの異物突起が少なく、フォトレジストからの剥離性に優れ、またフォトレジストの保護性にも優れたフイルムが得られた。

Claim (excerpt)：

二軸延伸ポリオレフィンフイルム(A層)の少なくとも片面に、粗面層(B層)を積層してなる積層フイルムからなり、該粗面層(B層)は1μm以上の粗さ密度PC1が10個/mm以上であり、該積層フイルムは、複屈折率が0.002〜0.010の範囲で、トータルヘイズが10%以上で、ゲルおよびフィッシュアイが5個/100mm2 以下であることを特徴とする感光製版用フォトレジストカバーフイルム。

IPC (5)：

G03F 7/11 501 ,  B29C 55/12 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 7/06 ,  B32B 27/32