共役不飽和カルボニル化合物の製造法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：後藤幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000176494
Publication number (International publication number)：2001354611
Application date： Jun. 13, 2000
Publication date： Dec. 25, 2001
Summary：

【要約】【課題】共役不飽和カルボニル化合物を温和な条件で生産効率よく製造する。【解決手段】本発明の共役不飽和カルボニル化合物の製造法では、下記式(1)【化1】(式中、R1及びR2は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基などを示し、R1及びR2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成してもよい。Xは酸素原子又はヒドロキシル基を示す)で表されるイミド化合物とpKa8.0以下の酸のコバルト(II)塩とで構成された触媒の存在下、炭素-炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物を酸素と反応させて、該メチレン基の炭素原子にオキソ基が導入された対応する共役不飽和カルボニル化合物を生成させる。前記炭素-炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物として、例えば、環に炭素-炭素二重結合を有する単環又は多環式化合物などが使用できる。

Claim (excerpt)：

下記式(1)【化1】(式中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、R1及びR2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成してもよい。Xは酸素原子又はヒドロキシル基を示す。前記R1、R2、又はR1及びR2が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香族性の環には、上記式(1)中に示されるN-置換環状イミド基がさらに1又は2個形成されていてもよい)で表されるイミド化合物とpKa8.0以下の酸のコバルト(II)塩とで構成された触媒の存在下、炭素-炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物を酸素と反応させて、該メチレン基の炭素原子にオキソ基が導入された対応する共役不飽和カルボニル化合物を生成させる共役不飽和カルボニル化合物の製造法。

IPC (6)：

C07C 49/653 , B01J 31/22 , C07B 61/00 300 , C07C 45/33 , C07D207/416 , C07D209/48

FI (6)：

C07C 49/653 , B01J 31/22 Z , C07B 61/00 300 , C07C 45/33 , C07D207/416 , C07D209/48 Z

F-Term (42)：

4C069AC30 , 4C069BC12 , 4C069CC02 , 4C204BB04 , 4C204CB04 , 4C204DB30 , 4C204EB01 , 4C204FB33 , 4C204GB01 , 4G069AA08 , 4G069BA21A , 4G069BA21B , 4G069BA27A , 4G069BA27B , 4G069BC29A , 4G069BC66B , 4G069BC67B , 4G069BE14A , 4G069BE14B , 4G069CB07 , 4G069CB72 , 4H006AA02 , 4H006AC44 , 4H006AD11 , 4H006AD15 , 4H006AD16 , 4H006AD17 , 4H006BA05 , 4H006BA19 , 4H006BA20 , 4H006BA45 , 4H006BA51 , 4H006BB21 , 4H006BC10 , 4H006BC11 , 4H006BC14 , 4H006BC19 , 4H006BC32 , 4H006BC34 , 4H006BE30 , 4H039CA62 , 4H039CC50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

酸化触媒系およびそれを用いた酸化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-023631 Applicant：ダイセル化学工業株式会社
特公平2-016739
特公平2-016739

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