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J-GLOBAL ID：200903032189975630

投影露光装置

Inventor： 白石 直正
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992314610
Publication number (International publication number)：1994163362
Application date： Nov. 25, 1992
Publication date： Jun. 10, 1994
Summary：

【要約】【目的】 コンタクトホールパターンの投影露光時の焦点深度を拡大する。【構成】 投影光学系PLの瞳面の中心円形領域を通過する結像光束LFaとその周辺の輪帯状領域を通過する結像光束LFbとの干渉性を消失させる偏光板、1/2波長板、1/4波長板、又は旋光物質を瞳面に配置することにより、少なくとも2つの結像光束(LFa、LFb)をインコヒーレントな状態に変換するSFINCS法を適用する。

Claim (excerpt)：

微細なパターンが形成されたマスクを、露光用の照明光により所定の開口数で照射する照明手段と、前記マスクのパターンから発生した光を入射して、前記パターンの像を感応基板上に結像投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記照明手段による前記照明光の開口数と前記投影光学系の開口数との比によって決まるコヒーレンスファクター(σ値)を0.5以上に設定するとともに、前記マスクと前記感応基板との間の結像光路内のフーリエ変換面、又はその近傍面に配置され、該フーリエ変換面上、又はその近傍面上の前記投影光学系の光軸を中心とする所定半径の円形領域内、あるいは前記光軸を中心とする所定幅の輪帯状領域内と、それ以外の領域とに分布する結像光の間の干渉性を低減させる干渉性低減素子を備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02

FI (2)：

H01L 21/30 311 N ,  H01L 21/30 311 L