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J-GLOBAL ID：200903032205246295
スパッタリング用チタンターゲットおよびその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大場 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995331110
Publication number (International publication number)：1997143704
Application date： Nov. 27, 1995
Publication date： Jun. 03, 1997
Summary：
【要約】【課題】 パーティクルの発生が少なく、方向の揃ったスパッタ粒子を放出することが可能なバッキングプレートを有するチタンターゲットおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 予め最大粒径20μm以下、平均結晶粒径10μm以下の再結晶組織に調製したチタンターゲット材と、アルミニウムを主体とするバッキングプレートとを、接触させた状態で300から450°C、圧力50から200MPaの条件で静水圧プレスを行い、微細な再結晶組織を保ったターゲットを得る。静水圧プレスには、アルミニウムの容器あるいは0.5mm以下の金属箔を容器として使用できる。接合時において、チタンターゲット材には、粗面化処理を施しておくことが望ましい。
Claim (excerpt)：
最大粒径20μm以下、平均結晶粒径10μm以下の再結晶組織を有するチタンターゲット材が、アルミニウムを主体とするバッキングプレートに拡散接合されてなるスパッタリング用チタンターゲット。
IPC (2)：
FI (3)：
C23C 14/34 A
, C23C 14/34 C
, B23K 20/00 B
