アパタイト構造体、及びアパタイトパターン形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：津国肇 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000104926
Publication number (International publication number)：2001294411
Application date： Apr. 06, 2000
Publication date： Oct. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】高精度で均質な所望の形状を有するアパタイト微細構造体、及び所望のアパタイトパターンを容易に形成させる方法を提供する。【解決手段】基材上にアパタイト層が、積層した部分と、積層しない部分及び/又はそれらの組合せを含む微細構造体、並びに(a)基材の少なくとも1の面において、アパタイト層を形成させない領域を、被覆材で被覆する工程;(b)アパタイト層を形成させる工程;(c)被覆材を除去する工程を含む、基材の表面に、所望のパターン又は構造体を有するアパタイト層を形成させる方法である。

Claim (excerpt)：

基材上にアパタイト層が、積層した部分と、積層しない部分及び/又はそれらの組合せを含む微細構造体。

IPC (5)：

C01B 25/32 , A61L 27/00 , H01L 21/314 , H01L 27/04 , H01L 21/822

FI (4)：

C01B 25/32 G , A61L 27/00 U , H01L 21/314 A , H01L 27/04 C

F-Term (46)：

4C081BA17 , 4C081BB04 , 4C081BC01 , 4C081CA021 , 4C081CA041 , 4C081CA051 , 4C081CA081 , 4C081CA131 , 4C081CA161 , 4C081CA271 , 4C081CA281 , 4C081CB051 , 4C081CD31 , 4C081CE11 , 4C081CF012 , 4C081CF032 , 4C081CF061 , 4C081CF111 , 4C081CF131 , 4C081CF151 , 4C081CF161 , 4C081CG02 , 4C081CG05 , 4C081CG07 , 4C081CG08 , 4C081DA01 , 4C081DA02 , 4C081DA06 , 4C081DA15 , 4C081DB07 , 4C081DC03 , 4C081DC04 , 4C081DC05 , 4C081DC06 , 4C081DC14 , 4C081EA02 , 4C081EA05 , 4C081EA06 , 5F038AC15 , 5F038EZ14 , 5F038EZ20 , 5F058BA11 , 5F058BF41 , 5F058BF69 , 5F058BH20 , 5F058BJ01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

環境浄化材料及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-063867 Applicant：工業技術院長, ジェイ・エム・イー株式会社, 垰田博史, 野浪亨
金属修飾アパタイト及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-141931 Applicant：富士通株式会社, 橋本和仁, 渡部俊也
医療用補綴材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-279625 Applicant：共立窯業原料株式会社, 株式会社エス・ティー・ケー・セラミックス研究所, 味の素株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

セラミックス薄膜のバイオミメティック成長

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