ポジ型レジスト組成物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992178137
Publication number (International publication number)：1993204144
Application date： Jul. 06, 1992
Publication date： Aug. 13, 1993
Summary：

【要約】【目的】耐熱性、感度、解像度及び焦点深度等の諸性能に優れ、且つ、スカムのないポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】フェノール類とカルボニル化合物との縮合により得られ、且つ、GPCにより測定したポリスチレン換算分子量900 以下の成分のパターン面積が、未反応フェノール類を除く全パターン面積に対して20%以下であるノボラック樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下式【化1】〔式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立して水素原子又はアルキル基等を表わし、x及びyはそれぞれ独立して1〜3の整数を、mは0〜4の整数を、各々表わす。〕で示されるフェノール化合物を含有し、フェノール化合物とアルカリ可溶性樹脂との重量比が3:10〜5:10であるポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

フェノール類とカルボニル化合物との縮合により得られ、且つ、GPC により測定したポリスチレン換算分子量900 以下の成分のパターン面積が、未反応フェノール類を除く全パターン面積に対して20%以下であるノボラック樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下式【化1】〔式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立して水素もしくはハロゲン原子、アルキルもしくはアルコキシ基又は-OCOR3 を表わし、R3 はアルキルもしくはフェニル基を表わす。x及びyはそれぞれ独立して1〜3の整数を、mは0〜4の整数を、各々表わす。〕で示されるフェノール化合物を含有し、フェノール化合物とアルカリ可溶性樹脂との重量比が3:10〜5:10であるポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開平3-200251
特開平3-200255
特開平3-259149

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