Pat

J-GLOBAL ID：200903032235427898

肌の不均一改善剤及びそれを含有する化粧料

Inventor： 大島 宏 ,  安藤 信裕 ,  今井 博明 ,  鈴木 淳子 ,  北田 好男
Applicant, Patent owner： ポーラ化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996191456
Publication number (International publication number)：1998017431
Application date： Jul. 02, 1996
Publication date： Jan. 20, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 肌の不均一を改善し、くすみを改善予防する化粧料などの組成物を提供する。。【課題の解決手段】 一般式(I)に表される化合物及び/又は生理的に許容されるこれらの塩を化粧料などの経皮投与組成物に含有せしめる。【化1】(但し、式中R1は水素原子又は水酸基を表し、R2、R3、R4、R5、R6はそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基を表し、R7はエステル化されても良いカルボキシル基、ヒドロキシメチル基、ホルミル基又は水酸基を表し、R8は分岐をしていても良い炭素数3〜5のアルキル基又はアルケニル基を表す。)

Claim (excerpt)：

一般式(I)に表される化合物及び/又は生理的に許容されるこれらの塩からなる、肌の不均一改善剤。【化1】(但し、式中R1は水素原子又は水酸基を表し、R2、R3、R4、R5、R6はそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基を表し、R7はエステル化されても良いカルボキシル基、ヒドロキシメチル基、ホルミル基又は水酸基を表し、R8は分岐をしていても良い炭素数3〜5のアルキル基又はアルケニル基を表す。)

IPC (4)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/48 ,  A61K 31/56 ADA ,  C07J 63/00

FI (5)：

A61K 7/00 G ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/48 ,  A61K 31/56 ADA ,  C07J 63/00