Pat
J-GLOBAL ID：200903032268224330

レジスト組成物

Inventor：
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002112372
Publication number (International publication number)：2003307839
Application date： Apr. 15, 2002
Publication date： Oct. 31, 2003
Summary：
【要約】【課題】 感度、解像力及びプロファイルが優れたレジスト組成物を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、-CON-結合又は-SO2N-結合を有する基を含有する特定のスルホニウム化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】一般式(I)中、Y1及びY2は、各々独立に、アルキル基、アリール基、アラルキル基、複素環基、オキソアルキル基、又はオキソアラルキル基を表す。Y1とY2が結合して環を形成しても良い。Aaは、単結合又は有機基を表す。Baは、-CON(Ra)-結合を有する基又は-SO2N(Ra)-結合を有する基を表す。Raは、水素原子又はアルキル基を表す。mは1〜3の整数を表す。X-は、非求核性アニオンを表す。
IPC (10)：
G03F 7/004 503 ,  C07C381/12 ,  C08F 12/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  C08F232/04 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (10)：
G03F 7/004 503 A ,  C07C381/12 ,  C08F 12/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  C08F232/04 ,  C09K 3/00 K ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (68)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB40 ,  4H006AB76 ,  4J100AB04 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AR09P ,  4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100AR11R ,  4J100AR32Q ,  4J100AR32R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03 ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA11S ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16R ,  4J100BC03R ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC04S ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC07R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53S ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM