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J-GLOBAL ID：200903032282030483

水処理装置及びその処理方法

Inventor： 横山 昌夫 ,  常深 秀成
Applicant, Patent owner： 鐘淵化学工業株式会社
Agent (1)： 柳野 隆生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996084951
Publication number (International publication number)：1997271757
Application date： Apr. 08, 1996
Publication date： Oct. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 砒素、鉛等の有害金属が含まれている原水から、これら有害金属を効果的に低減除去することができる水処理装置及びその処理方法を提供する。【解決手段】 一端及び他端にそれぞれ水の流入口12a及び流出口13aを有する筒状のハウジング10内に、少なくとも一層の粒状セラミックスを堆積し、その粒状セラミックス層26の上下に少なくとも1個の磁石41をその磁力線の向きが互いに一致し、かつ磁力線の方向が水の流れに沿うように配置してなるろ過層を備えた水処理装置おにいて、通水処理することにより、原水中の有害金属を低減除去してなる。

Claim (excerpt)：

一端及び他端にそれぞれ水の流入口及び流出口を有する筒状のハウジング内に、少なくとも一層の粒状セラミックスを堆積し、その粒状セラミックス層の上下に少なくとも1個の磁石をその磁力線の向きが互いに一致し、かつ磁力線の方向が水の流れに沿うように配置してなるろ過層を備えた水処理装置において、通水処理することにより、原水中の有害金属を低減除去することを特徴とする水処理装置。

IPC (10)：

C02F 1/28 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/48 ZAB ,  C02F 1/62 ,  C02F 1/68 510 ,  C02F 1/68 520 ,  C02F 1/68 530 ,  C02F 1/68 540 ,  C02F 1/68 ,  C02F 1/72

FI (14)：

C02F 1/28 B ,  C02F 1/28 D ,  C02F 1/28 E ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/48 ZAB A ,  C02F 1/62 Z ,  C02F 1/68 510 B ,  C02F 1/68 520 P ,  C02F 1/68 530 B ,  C02F 1/68 540 A ,  C02F 1/68 540 B ,  C02F 1/68 540 F ,  C02F 1/68 540 H ,  C02F 1/72 Z