Pat

J-GLOBAL ID：200903032301766283

感放射線性樹脂組成物

Inventor： 西村 功 ,  藤原 考一 ,  小林 英一 ,  下川 努 ,  中村 敦 ,  米田 英司 ,  王 勇
Applicant, Patent owner： JSR株式会社
Agent (1)： 和気 操
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003426162
Publication number (International publication number)：2004220009
Application date： Dec. 24, 2003
Publication date： Aug. 05, 2004
Summary：

【課題】 放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂と、感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、上記酸解離性基含有樹脂は、下記式(1)で表される繰り返し単位を含み、重量平均分子量と数平均分子量との比(Mw/Mn)が1.5よりも小さい。【化1】【選択図】 無

Claim (excerpt)：

アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂と、感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、 前記酸解離性基含有樹脂は、下記式(1)で表される繰り返し単位を含み、重量平均分子量と数平均分子量との比(重量平均分子量/数平均分子量)が1.5よりも小さいことを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (4)：

G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027

FI (4)：

G03F7/039 601 ,  C08F220/18 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R

F-Term (31)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-352700   Applicant：住友化学工業株式会社
• フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-185580   Applicant：ダイセル化学工業株式会社
• フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-186493   Applicant：ダイセル化学工業株式会社

Cited by examiner (15)

• ラクトン環を側鎖に有する(メタ)アクリル酸重合体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-186118   Applicant：日本曹達株式会社
• フォトレジスト用重合性不飽和化合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-047682   Applicant：ダイセル化学工業株式会社
• 狭分散性重合体の製造方法、狭分散性重合体及びそれのレジストへの適用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-194618   Applicant：住友化学工業株式会社
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-161500   Applicant：和光純薬工業株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-115497   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-327358   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-080895   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-266869   Applicant：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-274195   Applicant：東京応化工業株式会社
• 化学増幅型フォトレジスト用ポリマー及びフォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-041297   Applicant：住友ベークライト株式会社
• ポジ型感放射線性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-130718   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• リビングラジカル重合開始剤系及びそれを用いる重合体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-268805   Applicant：株式会社クラレ, ダイセル化学工業株式会社
• リビング特性を持つ重合
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-505398   Applicant：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー, コモンウェルスサイエンティフィックアンドインダストリアルリサーチオーガニゼーション
• 重合開始剤系及びそれを用いた重合体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-134554   Applicant：財団法人化学技術戦略推進機構
• 新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ-ン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-255167   Applicant：信越化学工業株式会社